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喜报!山东聚智半导体再添国家实用新型专利,攻克扩散炉气体均匀性难题

发布时间:2026-06-22 10:20:05      点击次数:5

    近日,山东聚智半导体科技有限公司传来重磅喜讯——公司自主研发的 “气体均匀分配式扩散炉膛结构” 正式获得国家知识产权局实用新型专利授权!

    专利号:ZL202521367031.0
    授权公告号:CN224378295U
    授权公告日:2026年6月19日

    这是山东聚智半导体在核心装备自主研发道路上的又一重要里程碑,标志着公司在半导体扩散工艺关键技术领域再攀新高。

    🔬 扩散炉:芯片制造的“心脏”设备

    扩散炉是半导体芯片制造、晶圆加工的核心设备,其工艺稳定性与管控精度直接决定了产品良率与生产效率。在扩散工艺中,反应气体在炉膛内的分布均匀性,是影响硅片掺杂一致性和方阻均匀性的关键因素


    然而,传统扩散炉在气体输送过程中长期存在一个“老大难”问题——工艺气体从进气管进入炉膛后难以均匀分散,容易造成炉管内气流分布不均,最终导致扩散后方阻均匀性较差,直接影响芯片性能和良品率。如何让每一片硅片都能“呼吸”到同样浓度的反应气体,成为困扰行业多年的技术痛点。


💡 创新突破:让气体“雨露均沾”

    针对这一行业难题,山东聚智半导体研发团队从炉膛结构设计入手,创新推出了“气体均匀分配式扩散炉膛结构”。该专利技术通过独特的气体均匀分配结构设计,从根本上解决了传统扩散炉内气体浓度分布不均匀的问题

    虽然该专利的具体结构细节尚未公开,但从技术方向来看,它通过在炉膛内部署精巧的气体分配组件,使反应气体能够从圆周的各个方向均匀扩散至炉体内腔,极大地提升了反应气体的扩散均匀性

这一创新设计的价值在于:

提升扩散均匀性——确保每一片硅片获得一致的掺杂浓度,大幅改善方阻均匀性

提高产品良率——避免部分硅片过度反应、另一部分反应不充分的问题

保障工艺一致性——为批量生产提供稳定可靠的工艺保障


🏭 硬核实力:十余项专利构建技术护城河

    作为一家成立于2022年的半导体行业新锐力量,山东聚智半导体科技有限公司注册资本5000万元,核心成员均拥有十年以上半导体行业经验,涵盖集成电路、微机电、LED、太阳能设备服务等关键岗位


    截至目前,公司已累计拥有十余项自主专利技术,覆盖半导体扩散炉、键合机、智能管控系统等核心产品与技术领域。同时,公司全面通过了ISO 9001质量管理体系、ISO 14001环境管理体系、ISO 45001职业健康安全管理体系三大国际权威认证

    就在今年4月,公司刚刚斩获了《半导体扩散炉智能管控平台V1.0》软件著作权与《键合机定位对准片》实用新型专利。不到两个月时间再添一项核心专利,充分彰显了山东聚智半导体强劲的技术创新能力与研发效率


🚀 展望未来:为国产半导体装备自主可控贡献力量

    从气体均匀分配式扩散炉膛结构,到扩散炉智能管控平台,再到键合机定位对准片,山东聚智半导体正以“技术立企、创新驱动” 为发展战略,一步一个脚印地在半导体装备国产化的道路上坚实前行

    气体均匀性是扩散工艺的“生命线”,这项专利的获得,不仅是公司技术实力的证明,更是国产半导体装备在核心工艺环节持续突破的生动写照。未来,山东聚智半导体将继续深耕半导体装备研发与制造,以更多创新成果助力中国半导体产业高质量发展!

Z202505270002-气体均匀分配式扩散炉膛结构-实用新型专利证书(1)_1.Jpeg

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